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基于Aspen Plus和Aspen HYSYS的化工流程设计与模拟图书

原作名： = Chemical process design and simulation Aspen Plus and Aspen HYSYS applications

作者：海德瑞(Haydary, Juma) 著

译者：汤健译

张婷译

出版：国防工业出版社，2025

定价： 198.0

页数： XXIX, 454页, 4页图版

学科：理学-化学类

主题：化工过程

ISBN： 978-7-118-13197-0

内容简介

本书基于Aspen Plus和Aspen HYSYS, 从化工理论与实际应用相结合的视角进行化工流程设计和模拟的研究。本书从概念简述、单元级操作、常规组分与非常规组分工厂级操作4篇逐层深入地对化工流程的设计与模拟进行阐述, 描述了Aspen Plus和Aspen HYSYS针对不同组分进行流程设计与模拟的应用实例, 给出了模拟过程的输入输出和过程参数以及各个模块数据包和物性方程的确定方法, 分析了两种软件系统的模拟过程及输出结果。

馆藏情况

馆藏号	馆藏地名称	索书号	文献状态
001682022	西校理科（西区图书馆主楼五楼）定位	TQ02-39 3821	在馆
001682024	西校理科（西区图书馆主楼五楼）定位	TQ02-39 3821	在馆
001682023	西校理科（西区图书馆主楼五楼）定位	TQ02-39 3821	在馆

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