当前位置：文献详情>半导体干法刻蚀技术

半导体干法刻蚀技术图书

作者：野尻一男, 著

译者：王文武译

出版：机械工业出版社，2024

定价： 89.0

页数： X, 161页

学科：工学-电子信息类

主题：半导体技术

ISBN： 978-7-111-74202-9

丛书：集成电路科学与工程丛书

内容简介

本书不仅介绍了半导体器件中所涉及材料的刻蚀工艺, 而且对每种材料的关键刻蚀参数、对应的等离子体源和刻蚀气体化学物质进行了详细解释。本书讨论了具体器件制造流程中涉及的干法刻蚀技术, 介绍了半导体厂商实际使用的刻蚀设备的类型和等离子体产生机理, 例如电容耦合型等离子体、磁控反应离子刻蚀、电子回旋共振等离子体和电感耦合型等离子体, 并介绍了原子层沉积等新型刻蚀技术。

馆藏情况

馆藏号	馆藏地名称	索书号	文献状态
001682523	西校理科（西区图书馆主楼五楼）定位	TN305.7 6716	在馆
001682525	西校理科（西区图书馆主楼五楼）定位	TN305.7 6716	在馆
001682524	西校理科（西区图书馆主楼五楼）定位	TN305.7 6716	在馆

预约情况：当前已有0人预约，还可 1人预约

预约

半导体干法刻蚀技术 图书

半导体干法刻蚀技术图书