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单晶金刚石的化学机械抛光方法及机理研究图书

定价： 68.0

页数： 108页

学科：理学-化学类

ISBN： 978-7-5612-9780-3

内容简介

本书共6章, 内容包括绪论、·OH环境下金刚石常温CMP的可行性的MID分析、金刚石常温CMP抛光液的研究、金刚石常温CMP的工艺研究、基于Fenton抛光液的金刚石CMP中的机械作用和氧化作用、Fenton抛光液在金刚石不同晶面CMP中的抛光性能等。

馆藏情况

馆藏号	馆藏地名称	索书号	文献状态
001332005	西校理科（西区图书馆主楼五楼）定位	TQ164.8 5022	在馆

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